D還是不同等級的生產(chǎn)環(huán)境，均可以給客戶提供工藝關(guān)聯(lián)的、控制連續(xù)的、可靠的、和可重復(fù)的真空氣體等離子處理系統(tǒng)。
plasmaFPC 系列等離子處理機器適合于廣泛的等離子清洗、表面活化和粘接力增強應(yīng)用。這些能力可用于半導(dǎo)體封裝工廠，微電子封裝和組裝，也可以用于醫(yī)藥和生命科學(xué)器件的生產(chǎn)。
等離子處理設(shè)備的特點和優(yōu)勢
帶觸摸屏的PLC控制器提供了直觀圖形界面和實時工藝呈現(xiàn)
無論是直接等離子，還是下游等離子模式，彈性架板結(jié)構(gòu)都可以應(yīng)對各種不同的樣品載具
13.56 MHz 射頻發(fā)生器有自動阻抗調(diào)諧，實現(xiàn)了良好的工藝再現(xiàn)性
批處理類型，每一個單元都包含在機器內(nèi)部，只需要較小的占地面積
專有的軟件控制系統(tǒng)生成工藝和生產(chǎn)數(shù)據(jù)用于統(tǒng)計制成控制
批處理等離子&清洗設(shè)備
plasmaFPC系列批處理真空等離子系統(tǒng)提供了小、中、大三種不同真空腔體尺寸的選擇。
