等離子體與器壁、電極接觸時，在交界面處會形成一個電中性被破壞的薄層， 這個偏離電中性的薄層稱為等離子體鞘，也稱為常壓大型等離子表面清洗機等離子體鞘層、鞘層的形成與等離子體屏蔽效應密切相關，是等離子體受到擾動時，由德拜屏蔽產生的空間電荷層。（plasma sheath）
等離子體鞘（plasma sheath）可以在電極或器壁表面形成，依據電極或器璧電位與等離子體電位關系，可分為離子鞘和電子鞘。電極近旁的鞘：設等離子體電位為Vp，電極電位為Vs，當電極電位Vs與等離子體電位Vp所有一個差值時接通外電路，電極上會有電流流過，這相當于引入一個外電勢作用于等離子體。當VsNe)，隨著電場增強會在距電極一定距離的范圍內形成由離子構成的空間電荷層，即離子鞘。當Vs>Vp時，電極近旁形成的電場就將吸引電子排斥離子，結果為電子密度大于離子密度(Ne>Ni)，隨著電場強度的增加，相應的在距電極的一定距離范圍內 形成由電子構成的空間電荷層，即電子鞘。plasma sheath
浮置基板處的鞘層：當插入等離子體的是絕緣材料，因為電流不能通過，所以到達絕緣體表面的帶電粒子要么在表面處相互復合，要么返回等離子體區。在 等離子體中，由于電子的運動速度大于重粒子的運動速度，絕緣體表面會出現凈的負電荷積累，即表面相對于等離子體區呈負電勢。表面區的負電勢將排斥向表面運動的后續電子，吸引正離子，直到絕緣體表面的負電勢達到某個確定值，使離子流與電子流相等為止。這時絕緣體表面電位Vf趨于穩定，Vf與等離子體電位之間的差值(Vp-Vf)保持定值。此時在靠近絕緣體表面存在一個空間電荷層，這個空間電荷層為離子鞘。由于等離子體中的絕緣體通常被稱為浮置基板，絕緣體的電位常稱為浮置電位。顯然浮置電位是一個負值，而浮置基板與等離子體交界處形成的是一個由正離子構成的空間電荷層。因此任何絕緣體，包括反應器壁置于等離子體中都會形成離子鞘。
等離子體鞘（plasma sheath）是等離子體重要特征之一，等離子體鞘的具體表現與體系溫度T和粒子密度n密切相關。通過對鞘層的研究可以了解等離子體的一些重要性質。